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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

活动后台 该半导体设备行业工厂的靠近长三角形城市,重要工作8厘米和12厘米晶圆,日排放口出废用水量约2000吨。在半导体设备行业工作方法麻烦,废污水化学成分各样且包含多个难生物降解产物,工厂的原先的处置公用设施没有办法无法日趋严要求的节能环保排放口出原则,故投入资金4000万元新修技术专业废污水处置站。 废水处理有效成分及起源 该企业的污废水 最主要的划分四种: 含氟化工废水:出自于晶圆蚀刻、擦洗工艺程序,氟亚铁离子含量高达到2000mg/L; 无机污废水 :出于光刻、显影液等工艺设计,所含异丙醇、甲苯等无机乙酸丁酯,COD值在5000mg/L以内; 腐蚀性废水治理 工艺:出现于进行维护清洁和外表治理 步骤,pH值下跌大; 含铜废液:根据化学镍和重金属所有艺,铜阳离子密度约150mg/L。 除理加工制作工艺 过程 针对性不同的本质特征的化工废水,适用"进行分类收藏+分质办理+后部深层次办理"的整合方法: 含氟废液治理 线: 二级生物沉垫:先加药系统氯化钙调高pH至6-7,另加入PAC和PAM水解酸化池沉垫; 抗逆性氧化的铝吸:确保安全生产氟铝离子浓度值高于8mg/L下例。 生物碳化工电镀废水处理工艺线: 微钛电极化学反应:铁碳组合填料床预治理 增加废污水可生物化学性; UASB活性污泥反馈器:HRT=24h,COD消除率65%; MBR膜怪物化学流化床反应器:所采用PVDF中空玻璃窗玻璃纤维膜,出水量COD<50mg/L。 酸性废液结合模式: 自行pH调结:利用线下探测仪保持加酸加碱量; 斜管石雕文化沉淀池石雕文化沉淀:快速清理结合行成的漂浮物。 含铜污废水 解决: 化学式沉定:添加NaOH改善pH至9-10,变成氢被氧化铜沉定; 阳化合物传递:切实保障铜阳化合物有机废气浓度<0.3mg/L。 程度正确处理模块: 嗅氧离子液体氧化物:进几步溶解难分解的有机的物; 活力炭油烟净化器:清掉颜色和氢化物发生器严重污物; 紫外线杀菌消毒:确定留水的微生物体统计指标达到。 终究成效 新项目运营后,水流水被污染的稳定可靠完成《電子产业水被污染的物排污标准化》(GB 39731-2020)特备排污标准值想要,至少氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。去年可缩减氟化物排污约120吨,COD排污约400吨,回收利用水教育资源约10万吨。模式一键化成度高,运营代价抑制在8.5元/吨水范围。

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