半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
品牌视频背景
该企业公司技术分娩半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,废水净化处工院艺氟盐浓度较大且材质复杂性。增加了净化处工院艺目的不固定,氟化物尾气排放标准时不时偏高。内容投资加盟21000万元的建设针对性净化工作配制,构思净化工作功能500吨/天。
化工废水成分表及由来
气体其主要来于制作机器设备家电清洗和气体洗條:
氟铝离子含量:1500-3500mg/L
含硫酸钠根阴阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等金属件设计元素
正确处理工艺设备方法
争对高有机废气浓度优缺点,主要包括"与+多极乳浊液+膜整理"工艺流程:
生活污水回收池:的分类回收不一样溶度生活污水
与不良反应池:分步骤添加氢硫化钠和氢硫化钙,设定最中pH至7.5-8.
斜板积累池症状池:加药PAC和PAM加强积累功能
斜管放置池:有效率固液剥离
多材质进行压滤机:剔除狗狗细小顆粒
反构建设计:角度脱盐和除氟
厌氧颗粒活性污泥精提缺水系统:离心力缺水后厌氧颗粒活性污泥运输专科处治
线监测数据体系:实时路况实时监测氟阴离子浓度值和pH值
终于视觉效果
加工处理装置进行大数据:
水进氟阴阳离子均值酸度:2800mg/L
满水后氟阳离子密度:3.2mg/L(最低值)
氟除去率:99.9%上面的
水工业废水处理率:到65%
系统软件自主化状态高,做到废气治疗资金减小30%,年回报氟化钙副设备约400吨。