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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

大型项目视频背景 该半导研制公司在华东东南部东南部,其主要工作智能家居控制电线集成电路芯片,日排卸含氟污水约800吨。犹豫本地人环保标准规范标准规范增强,原来处里油烟净化器始终无法足够氟化物排卸氧化还原电位大于5mg/L的新规范要求,公司项目投资1700万元新健技术专业含氟污水处里模式。 污废水 成分表及原因 电镀废水具有起出于IC芯片制造厂步骤中的刻蚀工艺程序和刷洗工艺程序,具有造成的废水具有: 氟阴离子盐浓度:300-800mg/L pH值:2- 包含小量硅酸盐、聚磷酸盐 少量天价属如铜、镍等 处置工艺设计方案 使用"预进行操作+药剂学沉淀物中+程度进行操作"结构工艺技术: 调节器池:均等化水质量的水量,设置成pH高清在线监控网 1级化学反应池:加药系统氢钝化钙,调整pH至7-8,变成氟化钙放置 两级奠定池:奠定提取氟化钙活性污泥 下级响应池:加药系统氯化钙和缔合氯化铝,进步除去稳定度氟阴阳离子 下级水解池:重新水解溶合 砂滤操作系统:避开飘浮物 几丁质酶炭吸咐:取除无机物物和微量分析高价属 淤泥解决系统软件:板框压滤脱水处理,淤泥含水量率降落到60%下面的 最后成果 系统性正常运作平衡后,喷水水源: 氟铁离子盐浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属含氧量均大于排除限 仍然符合《网上工业企业水环保问题物排污标淮》(GB39731-2020)规范要求,每季度极大减少氟化物排污约180吨。

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